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40 関係: 可燃性ガス、五酸化二ヒ素、化合物一覧、化学に関する記事の一覧、ペンタカルボニル鉄、メトヘモグロビン、トリフェニルアルシン、プロトン親和力、ヒ化ガリウム、ヒ素、ヒ素中毒、ビスムチン、デバルダ合金、ホスフィン、イオン注入、カコジル酸、ゲルマン (化合物)、ジボラン、スチビン、セレン化水素、第15族元素、特定化学物質、特定高圧ガス取扱主任者、過レニウム酸、血液剤、高圧ガス移動監視者、高圧ガス販売主任者、自然発火性物質、臭化水銀(II)、致死量、酸化カコジル、極めて危険有害な物質の一覧、毒、水素、水素化合物、溶解度の一覧、木星の大気、有機ヒ素化合物、有機金属気相成長法、日本工業規格（化学）の一覧 (K 0000-0999)。
可燃性ガス
可燃性ガス（かねんせいガス、英:inflammable gas）とは、継続的に燃焼する性質のある気体のこと。可燃物の一種である。ほかの可燃物同様、通常環境において着火した場合に燃焼する。可燃性ガスの特徴として、広い空間に高い密度で存在する場合ガス爆発を伴う激しい燃焼を引き起こす原因となる。 空気中において以下の性質のうちいずれか、または複数の性質を持つ。.
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五酸化二ヒ素
五酸化二ヒ素（ごさんかにひそ、diarsenic pentoxide）は、化学式 As2O5 で表されるヒ素の酸化物である。ヒ素の化合物として産業上重要である。三酸化二ヒ素などの他のヒ素化合物と同様、強い毒性を持つ。.
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化合物一覧
化合物一覧（かごうぶついちらん）では、日本語版ウィキペディアに記事が存在する化合物の一覧を掲載する。.
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化学に関する記事の一覧
このページの目的は、化学に関係するすべてのウィキペディアの記事の一覧を作ることです。この話題に興味のある方はサイドバーの「リンク先の更新状況」をクリックすることで、変更を見ることが出来ます。 化学の分野一覧と重複することもあるかもしれませんが、化学分野の項目一覧です。化学で検索して出てきたものです。数字、英字、五十音順に配列してあります。濁音・半濁音は無視し同音がある場合は清音→濁音→半濁音の順、長音は無視、拗音・促音は普通に（ゃ→や、っ→つ）変換です。例：グリニャール反応→くりにやるはんのう †印はその内容を内含する記事へのリダイレクトになっています。 註) Portal:化学#新着記事の一部は、ノート:化学に関する記事の一覧/化学周辺に属する記事に分離されています。.
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ペンタカルボニル鉄
ペンタカルボニル鉄 (pentacarbonyliron)、または単に鉄カルボニル (iron carbonyl) は、化学式が Fe(CO)5 と表される鉄の錯体である。標準状態で刺激臭をもつ淡黄色のさらさらした液体。有機合成において有用な、多くの鉄化合物の前駆体である。一酸化炭素と鉄の微粉末から合成される。安価に購入可能である。.
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メトヘモグロビン
メトヘモグロビン（左） メトヘモグロビン（Methemoglobin）は、ヘモグロビンの一種であり、通常のヘモグロビンに配位されている二価（フェロ）の鉄イオンが三価（フェリ）のものである。メトヘモグロビンは、酸素を運ぶことができない。チョコレートの茶色に青みがかった色をしている。ニコチンアミドアデニンジヌクレオチド (NADH) 依存性のシトクロムb5還元酵素（ジアフォラーゼI）は、メトヘモグロビンをヘモグロビンに還元・修復する機能を担っている。 一般の人では、ヘモグロビンの1-2%がメトヘモグロビンである。これよりも数値が高い場合には、遺伝的要因か様々な化学物質への曝露が可能性として考えられ、高い数値の程度に応じてメトヘモグロビン血症として知られている健康問題の原因となる。メトヘモグロビンの数値が高い場合には、実際の酸素飽和濃度に関わらずパルスオキシメーターでは85%近くの数値が出る傾向にある。.
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トリフェニルアルシン
トリフェニルアルシン（）は、化学式As(C6H5)3、もしくはAsPh3で表される有機ヒ素化合物の一種である。有機合成化学の試薬や、錯体化学においては配位子として用いられる。ヒ素原子とフェニル基の炭素原子との間の結合距離は1.942–1.956Åで、炭素-ヒ素-炭素の結合角は99.6–100.5°である。 ヒ素を含有する化合物であり、日本の毒物及び劇物取締法では毒物に、国際がん研究機関では発癌性リスクについてGroup1（ヒトに対する発癌性が認められる）に分類している。.
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プロトン親和力
プロトン親和力（プロトンしんわりょく、proton affinity）とは気相中において分子あるいはイオンにプロトン（水素イオン）付加する場合の親和力であり、エンタルピー変化の数値で表す。電子親和力が電子の付加に対するものであるのに対し、プロトン親和力は陽子の付加に対するエネルギー変化にあたる。 この数値は気相中における物質の塩基としての強度を示すもので、気相中における酸塩基平衡の指標となるものである。.
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ヒ化ガリウム
ヒ化ガリウム（ヒかガリウム、gallium arsenide）はガリウムのヒ化物であり、組成式はGaAsである。化合物半導体であるため、その性質を利用して半導体素子の材料として多用されている。半導体分野ではガリウムヒ素（ガリウム砒素）という、さらにはそれを短縮したガリヒ素という呼称で呼ばれることも多い。.
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ヒ素
ヒ素（砒素、ヒそ、arsenic、arsenicum）は、原子番号33の元素。元素記号は As。第15族元素（窒素族元素）の一つ。 最も安定で金属光沢があるため金属ヒ素とも呼ばれる「灰色ヒ素」、ニンニク臭があり透明なロウ状の柔らかい「黄色ヒ素」、黒リンと同じ構造を持つ「黒色ヒ素」の3つの同素体が存在する。灰色ヒ素は1気圧下において615 で昇華する。 ファンデルワールス半径や電気陰性度等さまざまな点でリンに似た物理化学的性質を示し、それが生物への毒性の由来になっている。.
ヒ素中毒
ヒ素中毒（ヒそちゅうどく）とは、ヒ素の生体毒性によって生じる病態であり、症状は多岐にわたるが、重篤な場合は重要な代謝酵素が阻害され多臓器不全を生じることなどにより死に至る。主に阻害されるのはリポ酸を補酵素として用いる酵素で、ピルビン酸脱水素酵素やαケトグルタル酸脱水素酵素などである。このため、ピルビン酸や乳酸など脱水素反応の基質が蓄積する。特に脳への影響が大きく、神経学的症状が現れる場合もある。.
ビスムチン
ビスムチン (bismuthine) は、ビスマスの水素化物にあたる無機化合物で、アンモニアの類縁体としてはもっとも重い分子である。沸点は 16.8 ℃ と予想されているが、それよりも低い温度で分解を起こしてしまう。この分子は H−Bi−H 結合角がそれぞれほぼ 90 ° の、ピラミッド構造をとっていると予想されている。IUPAC系統名はビスムタン (bismuthane)。ほか、水素化ビスマスとも呼ばれる。.
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デバルダ合金
デバルダ合金（デバルダごうきん）とは、アルミニウム約45 %、銅約50 %、亜鉛約5 %の合金のことである日本工業規格 JIS K 8653-1995。 デバルダ合金は、アルカリ条件で蒸留しアンモニアが除去された後に残る硝酸塩を定量分析するための化学分析に還元剤として用いられる。その名称は、19世紀の後半にチリの硝石を分析する新しい手法を開発するためにデバルダ合金を合成したイタリアの化学者アルトゥーロ・デバルダ (1859-1994)に由来する。 デバルダ合金は、イオンクロマトグラフィーが開発される前は農学および土壌学において硝酸塩の定量分析もしくは定性分析に用いられ、今日では主要な分析法として世界中で採用されている。 このようにデバルダ合金は窒素の分析に用いられるものの、市販品ではデバルダ合金自身がわずかに窒素を含んでいる。そのため、実際の使用においては市販品の含有窒素量を事前に分析し、窒素含有量の少ないデバルダ合金を試験に供するということが行われる。.
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ホスフィン
ホスフィン (phosphine) は分子式 PH3 で表される無機化合物。リン化水素（リンかすいそ、hydrogen phosphide）、水素化リン (phosphorus hydride)とも呼ばれる。IUPAC組織名はホスファン (phosphane) である。「ホスフィン」は PH3 を母化合物とする有機化合物 R3P の総称でもある。 ホスフィンは半導体製造のドーピングガスの原料であり、ケイ素をn形にする場合や、InGaP（インジウムガリウムリン）などといった半導体を製造するときにも用いる。 常温では無色腐魚臭の可燃性気体で、常温の空気中で自然発火する。極めて毒性が強く（許容量 0.3 ppm）、吸入すると肺水腫や昏睡状態に陥る。融点 -134 ℃、沸点 -87.8 ℃、密度 1.379 g/L (気体, 25 ℃)。日本ではその強い毒性から、毒物及び劇物取締法において、医薬用外毒物の指定を受けている。 アンモニアと同様に強酸性媒体中で水素イオンを受け取りホスホニウムイオン PH4^+ となる塩基としての作用を持つが、アンモニアと比べて弱塩基であり、水溶液中では水分子から水素イオンを受け取り水酸化物イオン OH- を放出する作用は極めて弱い。.
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イオン注入
イオン注入（イオンちゅうにゅう、）は、物質のイオンを固体に注入する加工方法である。イオン注入は固体の特性を変化させる点で材料工学に属し、工業的には半導体の生産に使用され、金属の表面処理など様々な材料科学の研究などが行われている。イオン注入は、対象の物質と別の元素を注入することにより、物質に化学的変化を与えると同時に、物質の破損または破壊など、構造的な変化も与える。 一般的なイオン注入装置は、目的とする元素のイオンを発生させるイオン源、必要なイオンだけを取り出す質量分析器、イオンを電気的に加速する加速器、対象物であるターゲットを高真空状態とするチャンバーから成る。イオンは単一の元素が使われる。このため、ドーズ量と呼ばれる注入された物質の総量は、イオン電流の時間積分で与えられる。イオン注入によって与えられる電流は、μAで表されるほど小さい。 一般的なイオンの加速エネルギーは10-500keV（1,600-80,000aJ）の範囲で使用される。1-10keVの範囲でも使用することは可能だが、イオンが表面近くの数nm程度のところで停止するため実用的ではない。さらに対象物の損傷を小さくする場合は、イオンビーム成長が用いられる。また、通常の加速器ではさらに高い5MeV程度の加速エネルギーまで印加可能であるが、対象の損傷が大きく、また、深さ方向の分布も広がるため、実効的な変化量は小さくなる。 打ち込まれたイオンはイオンと対象物の種別の他に、加速器で与えられる運動エネルギーと対象物質と衝突散乱による運動量の喪失によってその飛程、つまり浸透して停止する深さが決まり、そのバラツキはほぼガウス分布に従う。イオンは対象物の原子との衝突、および電子軌道のオーバーラップによる効力などにより次第にエネルギーを失っていく。多くの場合、注入深さは10nmから1μm程度である。対象物の結晶原子の配列方向が打ち込み方向と同一の場合には、原子の間をトンネルのようにすり抜けるものが出るため、深さの制御が難しくなる。これを避けるため結晶方向からは少し傾けて打ち込まれる。イオン注入は対象物の表面付近で化学変化・構造変化が求められる場合に特に有効である。.
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カコジル酸
ル酸（Cacodylic acid）またはジメチルアルシン酸（Dimethylarsinic acid）は化学式 (CH3)2AsO2H で表される有機ヒ素化合物。両性である。カコジル酸塩は除草剤として多く用いられ、カコジル酸とカコジル酸ナトリウムの混合物はベトナム戦争において枯葉剤 (青)（Agent Blue）として使用された。カコジル酸ナトリウムは生体試料を電子顕微鏡のために調製、固定する際の緩衝液としてよく用いられる。.
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ゲルマン (化合物)
ルマン (germane) または水素化ゲルマニウム（すいそかゲルマニウム、germanium hydride）は、化学式が GeH4 と表されるゲルマニウムの水素化物で、メタンのゲルマニウムアナログである。最も単純なゲルマニウムの水素化物で、ゲルマニウムの有用な化合物の1つである。メタンやシランと同じように四面体形構造をとる。.
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ジボラン
ボラン (diborane、B2H6) は、ホウ素の水素化物。狭義のボラン（モノボラン、BH3）の二量体として存在する。 単体は無色で、特徴的な甘い臭気を持つ気体。分子量は 27.67（空気を1とした場合の比重は 0.965）。融点は -164.9 ℃、沸点は -92.8 ℃。CAS登録番号は 19287-45-7。 ジボランは水素化ホウ素ナトリウム (NaBH4) を硫酸で加水分解するか、BF3 や BCl3 と処理すると得られる。.
スチビン
チビン (stibine) は、化学式 SbH3、分子量 124.78 の、アンチモンの水素化物である。水素化アンチモン (antimony hydride) とも呼ばれる。IUPAC系統名では、スチバン (stibane) と表される。.
セレン化水素
レン化水素（セレンかすいそ、hydrogen selenide）は、化学式が H2Se で表されるセレンと水素の化合物で、カルコゲンの水素化合物の一つ。セレンの酸化数は-2。爆発範囲は8.84 - 62.4 vol%。.
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第15族元素
15族元素（だいじゅうごぞくげんそ）は、周期表において第15族に属する窒素・リン・ヒ素・アンチモン・ビスマス・モスコビウムのこと。窒素族元素、V族元素（ごぞくげんそ）、プニクトゲン （またはニクトゲン、pnictogen）とよばれることもある。プニクトゲンの名はギリシャ語のπνίγειν(pnigein)が語源で、窒素の特性である「窒息する」を意味する。 15族は窒素族とも呼ばれるが、特にプニクトゲンと呼ぶ場合は窒素(N)を除外する。これは窒素が非金属であるのに対し、他の元素(P、As、Sb、Bi)は半金属元素であり特性が異なるためである。 これらの単体は古くから知られており、ヒ素、アンチモン、ビスマスは近代以前に知られていた。リンが17世紀、窒素は18世紀の発見である。.
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特定化学物質
特定化学物質（とくていかがくぶっしつ）は、労働者に健康障害を発生させる（可能性が高い）物質として、労働安全衛生法施行令（令）別表第3で定められた化学物質である。.
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特定高圧ガス取扱主任者
特定高圧ガス取扱主任者（とくていこうあつガスとりあつかいしゅにんしゃ）とは、高圧ガス保安法（昭和26年法律第204号）に基づき、特定高圧ガスの保安に関する業務を管理する者である。特定高圧ガス消費者は、所定の知識経験を持つ者の中からこれを選任し、事業所の所在地を管轄する都道府県知事へその旨届け出なければならない（高圧ガス保安法第28条第2項、第32条第8項ほか）。.
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過レニウム酸
過レニウム酸（かレニウムさん、perrhenic acid）は、化学式が Re2O7(OH2)2 と表されるレニウムの化合物である。酸化レニウム(VII) Re2O7 の水溶液を蒸発させることで得られる。慣例的に過レニウム酸は HReO4 の化学式をもつとされる。この化学種は、水あるいは蒸気中で酸化レニウム(VII)を昇華させることで生じる。Re2O7 の溶液を数か月放置すると、分解して HReO4•H2O の結晶が生じる。これは四面体形の ReO4- を含む。ほとんどの用途においては、過レニウム酸と酸化レニウム(VII)は相互に使用される。.
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血液剤
血液剤（けつえきざい Blood agent）とは細胞内呼吸を阻害することによって致死させる化学兵器である。 主な血液剤はシアン化物剤 (Cyanides agent)であり、シアン化物イオンを発生させ、シトクロムcオキシダーゼをはじめとする生体内のヘム鉄の Fe3+ に配位し、細胞内小器官のミトコンドリアの活動を阻害する。これにより細胞が、血中から酸素を摂取できず、生物を死に至らしめる。通常は呼吸器系から吸入されるため、ガスマスクにて防護を行う。.
高圧ガス移動監視者
圧ガス移動監視者（こうあつがすいどうかんししゃ）とは、高圧ガス保安法に基づき、高圧ガスの容器を自動車等により輸送する際の安全輸送に努める者である。.
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高圧ガス販売主任者
圧ガス販売主任者（こうあつがすはんばいしゅにんしゃ）は、高圧ガスの販売事業主より販売事業所ごとに選任を受けている者である。経済産業省令で指定する23品目いずれかの高圧ガスを販売する場合、高圧ガス保安法に基づく高圧ガス製造保安責任者免状（一部の区分に限る）または高圧ガス販売主任者免状を受け、かつ6か月以上の製造保安または販売の実務に従事した者の中から選ばなければならないとされている。 高圧ガス製造保安責任者免状については高圧ガス製造保安責任者のページに詳述があるので、ここでは高圧ガス販売主任者免状とその取得方法、高圧ガス販売主任者に選任された者の権限並びに責務を中心に述べる。.
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自然発火性物質
自然発火性物質（英語：pyrophoricity）とは自然発火する性質を持つ物質である。 つまり、その自己発火温度は、室温より低い。 例として硫化鉄、およびウランを含む多くの反応性の高い金属がある。 粉末になったり、薄くスライスされたり、それらが水または湿った空気に触れた時に、発火性物質に火がつく。 それらは、アルゴンまたは一部の例外を除いて窒素などの不活性ガス雰囲気下で問題なく取り扱われることができる。.
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臭化水銀(II)
臭化水銀(II)（しゅうかすいぎん、Mercury(II) bromide）は、組成式が HgBr2 の臭素と水銀の化合物である。臭化第二水銀（しゅうかだいにすいぎん）とも表記される。塩化水銀(II)と同様に猛毒である。 結晶は白色、もしくは黄色を帯びた白色で、融点は 236 ℃。水に難溶 (0.55 g/100mL, 20 ℃)、熱エタノールに可溶。CAS登録番号は 。水銀と臭素を混ぜると生成する。光に弱く、遮光下で保存される。.
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致死量
物質や電磁波の致死量（ちしりょう）とは摂取・被曝すると死に至る量。急性毒性試験や、中毒事例などにより求められる。.
酸化カコジル
酸化カコジル(Cacodyl oxide)は、化学式2Oの有機ヒ素化合物である。比較的純粋に合成された初めての有機金属化合物と考えられている。 カコジルと酸化カコジルの構造を含む「カデの発煙液体」は、元々酢酸カリウムと三酸化二ヒ素を混ぜて加熱することで得られた。悪臭と毒性を持つ。変性剤及び警告剤として用いられる。.
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極めて危険有害な物質の一覧
* これは、アメリカ合衆国の緊急計画及び地域の知る権利に関する法律（42U.S.C.11002）のセクション302で定義されている極めて危険有害な物質の一覧である。このリストは40U.S.C.355別表で確認できる。2006年の更新は連邦公報71 FR 47121 (2006年8月16日)で確認できる。.
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毒
GHSの高い急性毒性を示す標章 EUでの一般的な毒のシンボル（2015年までの使用）。 毒（どく）、毒物（どくぶつ）は、生物の生命活動にとって不都合を起こす物質の総称である。 毒物及び劇物指定令で定められる「毒物」については毒物及び劇物取締法#分類の項を参照のこと。.
水素
水素（すいそ、hydrogenium、hydrogène、hydrogen）は、原子番号 1 、原子量 1.00794の非金属元素である。元素記号は H。ただし、一般的には「水素」と言っても、水素の単体である水素分子（水素ガス） H を指していることが多い。 質量数が2（原子核が陽子1つと中性子1つ）の重水素（H）、質量数が3（原子核が陽子1つと中性子2つ）の三重水素（H）と区別して、質量数が1（原子核が陽子1つのみ）の普通の水素（H）を軽水素とも呼ぶ。.
水素化合物
水素化合物（すいそかごうぶつ、ハイドライド、）とは、水素と化合した物質のことである。特に、狭義には水素と他の元素とから構成される2元素化合物が水素化物と呼ばれる。また、2元素化合物以外の水素化合物も含めて水素化物と呼ぶ場合も多い。 また化学反応で水素と化合することを水素化という。.
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溶解度の一覧
溶解度の一覧では、1気圧における化合物（主に無機化合物）の水に対する溶解度を水温別にまとめた表を掲載する。数値の単位は特に注釈がない限り g/100g H2O とした。化合物は五十音順に配列している。.
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木星の大気
2000年の木星の雲景 木星のジェット 木星の大気は、太陽系で最も大きい木星の大気圏である。.
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有機ヒ素化合物
有機ヒ素化合物(Organoarsenic compound)は、ヒ素と炭素の間に化学結合を持つ化合物である。殺虫剤、除草剤、殺菌剤として用いるために産業的に製造されるものもある。一般的にこれらの用途は、環境や人の健康への懸念から徐々に少なくなってきている。元となる化合物は、アルシンとヒ酸である。その毒性にも関わらず、有機ヒ素化合物の生体物質はよく知られている。.
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有機金属気相成長法
有機金属気相成長法（ゆうききんぞくきそうせいちょうほう、英語：metal organic chemical vapor deposition、略称：MOCVD）は、原料として有機金属やガスを用いた結晶成長方法、及びその装置である。結晶成長という観点を重視してMOVPE (metal-organic vapor phase epitaxy) とも言う。 化合物半導体結晶を作製するのに用いられ、MOCVDでは原子層オーダで膜厚を制御することができるため、半導体レーザを初めとするナノテクノロジーといった数nmの設計が必要な分野で用いられる。代表的な半導体結晶成長装置である分子線エピタキシー法 (MBE) と比較し、面内での膜厚の偏差が少なく、高速成長が可能であるほか、超高真空を必要としないために装置の大型化が容易である為、大量生産用の結晶成長装置としてLEDや半導体レーザを初めとした光デバイスの商用製品の作製に多く用いられている。.
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日本工業規格（化学）の一覧 (K 0000-0999)
日本工業規格（化学）の一覧(K 0000-0999)は、日本工業規格のK項目（化学）のうち、番号がK 0000-0999にあたるもの一覧である。 かかく0000.
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