半導体工学と蛍光X線

半導体工学と蛍光X線の違い

半導体工学 vs. 蛍光X線

半導体工学（はんどうたいこうがく、semiconductor engineering）は、半導体素子の設計・製造、寿命などの性能評価、半導体を利用した計測などを取り扱う工学である。下記のように多様な技術が関係する。. 蛍光X線（けいこうXせん、X-ray Fluorescence、XRF）とは、元素に特有の一定以上のエネルギーをもつX線を照射することによって、その物質を構成する原子の内殻の電子が励起されて生じた空孔に、外殻の電子が遷移する際に放出される特性X線のこと。その波長は内殻と外殻のエネルギー差に対応する。.

半導体工学と蛍光X線間の類似点

半導体工学と蛍光X線は（ユニオンペディアに）共通の1のものを持っています: 電子線マイクロアナライザ。

電子線マイクロアナライザ

電子線マイクロアナライザ（でんしせんマイクロアナライザ Electron Probe Micro Analyzer）または電子プローブ微小分析器、略称 EPMAとは電子線を対象物に照射する事により発生する特性X線の波長と強度から構成元素を分析する電子マイクロプローブ（EMP）装置の一つである。二次電子像や反射電子像による観察が主体の電子顕微鏡に特性X線検出器としてエネルギー分散型X線分析(EDS)を付加したもの（分析用のSEMやTEM、XMAなど）と比較して、EPMAは元素分析を主体としたものであり、特性X線検出器に波長分散型X線分析(WDS)を用いるために定量精度は良いが検出効率が悪く、より高い照射電流を必要とする。 10~30立方マイクロメータの試料があればWittry, David B. (1958).

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半導体工学と蛍光X線の間の比較

蛍光X線が25を有している半導体工学は、58の関係を有しています。彼らは一般的な1で持っているように、ジャカード指数は1.20%です = 1 / (58 + 25)。

参考文献

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