分子線エピタキシー法と真空間の類似点
分子線エピタキシー法と真空は(ユニオンペディアに)共通で10ものを持っています: 半導体、パスカル、ベーキング、イオンポンプ、ゲッターポンプ、ターボ分子ポンプ、真空ポンプ、超格子、薄膜、蒸着。
半導体
半導体(はんどうたい、semiconductor)とは、電気伝導性の良い金属などの導体(良導体)と電気抵抗率の大きい絶縁体の中間的な抵抗率をもつ物質を言う(抵抗率だけで半導体を論じるとそれは抵抗器と同じ特性しか持ち合わせない)。代表的なものとしては元素半導体のケイ素(Si)などがある。 電子工学で使用されるICのような半導体素子はこの半導体の性質を利用している。 良導体(通常の金属)、半導体、絶縁体におけるバンドギャップ(禁制帯幅)の模式図。ある種の半導体では比較的容易に電子が伝導帯へと遷移することで電気伝導性を持つ伝導電子が生じる。金属ではエネルギーバンド内に空き準位があり、価電子がすぐ上の空き準位に移って伝導電子となるため、常に電気伝導性を示す。.
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パスカル
パスカル (pascal、記号: Pa) は、圧力・応力の単位で、国際単位系 (SI) における、固有の名称を持つSI組立単位である。「ニュートン毎平方メートル」とも呼ばれる。 1パスカルは、1平方メートル (m2) の面積につき1ニュートン (N) の力が作用する圧力または応力と定義されている。その名前は、圧力に関する「パスカルの原理」に名を残すブレーズ・パスカルに因む。.
ベーキング
ベーキングとは、本来オーブンで調理することを言う。転じて、加熱処理のことを指す。.
イオンポンプ
イオンポンプ (ion pump) は、チタンのゲッター作用により排気する真空ポンプである。スパッタイオンポンプ (sputter ion pump) とも。.
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ゲッターポンプ
ッターポンプ (Getter Pump) は、チタンのゲッター作用により排気する真空ポンプである。サブリメーションポンプ (Sublimation Pump) とも呼ばれる。.
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ターボ分子ポンプ
ターボ分子ポンプ(ターボぶんしポンプ、英語:turbomolecular pump、略称:TMP)は機械式真空ポンプの一種で、金属製のタービン翼を持った回転体であるロータが高速回転し、気体分子を弾き飛ばすことによりガスを排気するポンプである。JISではこのような排気方式を「運動量輸送式」の真空ポンプと呼んでいる。 ターボ分子ポンプは、1912年にドイツのW.ゲーデによって機械式高真空ポンプの起源となる分子ポンプが考案され、その後、同じくドイツのW.ベッカーが1955年にタービン翼を有するターボ分子ポンプ(TMP)を考案、これが1958年に商品化されたのが最初といわれる。 動作原理は、斜めに配置されたタービン翼を高速回転(数万rpmに達する)させて吸気から排気への通過確率(A)と排気から吸気への通過確率(B)に差をつける事で圧力差を発生させる。設計上の排気速度は(開口面積×11.6×A/(B×p))となる(pは圧力上昇分)。翼の角度と回転数(翼速度)をモンテカルロ法などで計算すると、翼角度大=排気速度大、圧縮比小。翼角度小=排気速度小、圧縮比大となってくる。到達圧力は 10-7Pa (10-10Torr)程度。 その原理から、気体分子に対する翼速度(翼速度比)によって排気速度が変化するため軽ガス(水素・ヘリウム)に対しては排気速度が低下する。動作圧力には制限があるため、普通はロータリーポンプを補助ポンプとして用い、1セットになっている。ポンプ使用中に圧力が高真空から低真空側へ急激に変化した場合、ポンプの破損に繋がる可能性がある。 TMPは良い真空が得られる手軽で便利なポンプである。ロータの支持方式としては、油潤滑式の玉軸受型とグリス潤滑式、磁気浮上型がある。 玉軸受けの油潤滑式は価格が手ごろな利点があるが、取り付け方向は一方向に限られる。グリス潤滑式は取り付け方向に制限が無い場合が多いが、玉軸受け寿命・グリス補給と保守面で課題も多い。 磁気浮上型は.
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真空ポンプ
真空ポンプでエアコンの真空引きを行っているところ 真空ポンプ(しんくうポンプ、バキュームポンプ、vacuum pump )とは、容器内から気体を排出し、真空を得るためのポンプである。1650年にドイツのオットー・フォン・ゲーリケにより発明された。1台で超高真空から大気圧までをカバーするのは非常に困難な為、多くは粗引きポンプやメインポンプなどと組み合わせで使うが、用途によって1台で済む場合は粗引きポンプ、メインポンプなどの呼び分けはしない。.
超格子
超格子(ちょうこうし、Superlattice)とは複数の種類の結晶格子の重ね合わせにより、その周期構造が基本単位格子より長くなった結晶格子のこと。.
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薄膜
薄膜(はくまく)とは薄い膜のこと。分野によって定義が異なる。.
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蒸着
蒸着(じょうちゃく、英語:vapor deposition)とは、金属や酸化物などを蒸発させて、素材の表面に付着させる表面処理あるいは薄膜を形成する方法の一種。蒸着は、物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)に大別される。ここでは主にPVDの一種である真空蒸着を解説する。.
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上記のリストは以下の質問に答えます
- 何分子線エピタキシー法と真空ことは共通しています
- 何が分子線エピタキシー法と真空間の類似点があります
分子線エピタキシー法と真空の間の比較
真空が114を有している分子線エピタキシー法は、41の関係を有しています。 彼らは一般的な10で持っているように、ジャカード指数は6.45%です = 10 / (41 + 114)。
参考文献
この記事では、分子線エピタキシー法と真空との関係を示しています。情報が抽出された各記事にアクセスするには、次のURLをご覧ください: