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フォトリソグラフィ

索引 フォトリソグラフィ

フォトリソグラフィ(photolithography)は、感光性の物質を塗布した物質の表面を、パターン状に露光(パターン露光、像様露光などとも言う)することで、露光された部分と露光されていない部分からなるパターンを生成する技術。主に、半導体素子、プリント基板、印刷版、液晶ディスプレイパネル、プラズマディスプレイパネルなどの製造に用いられる。.

53 関係: 半導体半導体工学印刷化学物質化学気相成長ナノメートルネガフィルムポジティブリンスリトグラフレチクルレジストプラズマディスプレイプリント基板ヒ化ガリウムフォトマスクフォトレジストドライエッチング刷版分解能ウェハーウェットエッチングエッチングエキシマレーザーケイ素コンピューター・トゥ・プレートスパッタリングスピンコートステッパー写真植字光硬化樹脂回路図回折現像液製版超純水露出 (写真)開口率蒸着金属酸化物電子線描画装置陰極線X線極端紫外線リソグラフィ水銀灯水酸化テトラメチルアンモニウム波長液体...液晶ディスプレイ溶媒濃度 インデックスを展開 (3 もっと) »

半導体

半導体(はんどうたい、semiconductor)とは、電気伝導性の良い金属などの導体(良導体)と電気抵抗率の大きい絶縁体の中間的な抵抗率をもつ物質を言う(抵抗率だけで半導体を論じるとそれは抵抗器と同じ特性しか持ち合わせない)。代表的なものとしては元素半導体のケイ素(Si)などがある。 電子工学で使用されるICのような半導体素子はこの半導体の性質を利用している。 良導体(通常の金属)、半導体、絶縁体におけるバンドギャップ(禁制帯幅)の模式図。ある種の半導体では比較的容易に電子が伝導帯へと遷移することで電気伝導性を持つ伝導電子が生じる。金属ではエネルギーバンド内に空き準位があり、価電子がすぐ上の空き準位に移って伝導電子となるため、常に電気伝導性を示す。.

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半導体工学

半導体工学(はんどうたいこうがく、semiconductor engineering)は、半導体素子の設計・製造、寿命などの性能評価、半導体を利用した計測などを取り扱う工学である。下記のように多様な技術が関係する。.

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印刷

印刷(いんさつ、printing)とは、インキにより、紙などの媒体に文字や絵、写真などの画像を再現することを指し、印刷された物を印刷物という。 現代では2次元の媒体に限らず、車体など3次元の曲面に直接印刷する技術も多数開発されている。印刷がカバーする範囲は極めて広く、気体以外の全ての物体に対して可能であるとされている(ゲル状の物体にすら印刷が可能な技術がある)。.

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化学物質

化学物質(かがくぶっしつ、chemical substance)とは、分野や文脈に応じて以下のような様々な意味で用いられている言葉である。.

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化学気相成長

化学気相成長(かがくきそうせいちょう)、化学気相蒸着(かがくきそうじょうちゃく)または化学蒸着(CVD: chemical vapor deposition)は、さまざまな物質の薄膜を形成する蒸着法のひとつで、石英などで出来た反応管内で加熱した基板物質上に、目的とする薄膜の成分を含む原料ガスを供給し、基板表面あるいは気相での化学反応により膜を堆積する方法である。常圧(大気圧)や加圧した状態での運転が可能な他、化学反応を活性化させる目的で、反応管内を減圧しプラズマなどを発生させる場合もある。切削工具の表面処理や半導体素子の製造工程において一般的に使用される。.

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ナノメートル

ナノメートル(nanometre、記号: nm)は、国際単位系の長さの単位で、10−9メートル (m).

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ネガフィルム

ネガフィルムの例・上から順に135フィルム・110フィルム・ミノックス用フィルム ネガフィルムとは、被写体の明暗や色が反転した画像がつくられる写真フィルムである。「ネガ」は「ネガティブ (negative)」の略であり、英語ではnegative filmと表記する。カラーフィルムの場合、色は被写体の色の補色(ネガ、陰画)が現れる。プリント時に再反転されることで普通に見られる画像(ポジ、陽画)となる。 なお、ここでは主にカラーフィルムについて解説する。モノクロフィルムについてはモノクロフィルムの項を参照のこと。.

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ポジティブ

ポジティブ(positive).

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リンス

リンス(rinse)は、頭髪用の浴用化粧品の一種。ヘアリンスともいう。 洗髪後にリンス剤を使用して髪に馴染ませた後、洗い流すとリンスの中の有効成分(ジメチコン等の油分や陽イオン系界面活性剤)が髪の表面に付着し、コーティングされる。 コンディショナー(conditioner)または、ヘアコンディショナー(hair conditioner)ともいう。 似たようなものに手入れがあるが、違いは、髪の毛の表面にとどまるか、髪の毛の中まで浸透するかの違いである。.

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リトグラフ

リトグラフ: Borek (Borkau) in 1883, by Alexander Duncker. 石の版面(左)と石版画(右) リトグラフ (lithograph, lithography) は版画の一種で、平版画にあたる。水と油の反発作用を利用した版種で、製作過程は大きく「描画」「製版」「刷り」の3工程にわかれる。ほかの孔版画、凹版画、凸版画などに比べると複雑で時間も多く要するが、クレヨンの独特のテクスチャや、強い線、きめ細かい線、筆の効果、インクの飛ばした効果など、描写したものをそのまま紙に刷ることができ、多色刷りも可能で、版を重ねるにつれて艶を有した独特の質感が出てくる。 19世紀頃、ヨーロッパで偶然から原理が発見され、以降ロートレックなどの画家が斬新で芸術性の高いポスターをこの方法で描いた。以前は巨大な石(石灰岩)に描いていたため石版画(石版印刷術、リトグラフィ)とも呼ばれるが、近年は扱いやすいアルミ板を使うことが多い。.

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レチクル

レチクル(Reticle).

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レジスト

レジストとは、主に工業用途で使用される、物理的、化学的処理に対する保護膜、及びその形成に使用される物質である。 諸般の製造プロセス内で、サンドブラスト、イオン注入、エッチングなどの処理を施す際、被処理物表面の一部を樹脂などで保護し、処理をしたあとに保護膜を剥離することで、被処理物の所望の部分のみを処理することができる。この手法に使われる保護膜をレジストという。処理に耐える(resist)事からこの名がついた。 用途や塗り分け(パターニング)方法で幾種類かに分類される。.

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プラズマディスプレイ

日立製作所製42型PDPTV プラズマディスプレイ (PDP, Plasma Display Panel) は放電による発光を利用した平面型表示素子の一種である。電極を表面に形成したガラス板と、電極および、微小な溝を表面に形成し、溝内に赤、緑、青の蛍光体層を形成したガラス板とを狭い間隔で対向させて希ガスを封入し、この電極間に電圧をかけることによって紫外線を発生させ、蛍光体を光らせて表示を行っている。.

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プリント基板

プリント基板(プリントきばん、短縮形PWB, PCB)とは、基板の一種で、以下のふたつをまとめて指す総称。.

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ヒ化ガリウム

ヒ化ガリウム(ヒかガリウム、gallium arsenide)はガリウムのヒ化物であり、組成式はGaAsである。化合物半導体であるため、その性質を利用して半導体素子の材料として多用されている。半導体分野ではガリウムヒ素(ガリウム砒素)という、さらにはそれを短縮したガリヒ素という呼称で呼ばれることも多い。.

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フォトマスク

フォトマスク(英語:photomask)とは、ガラス乾板とも呼ばれ、電子部品の製造工程で使用されるパターン原版をガラス、石英等に形成した透明な板であり、「フォトリソグラフィ」と呼ばれる転写技術によって電子部品の回路パターン等を被転写対象に転写する際の原版となるものである。 半導体素子、フラットパネルディスプレイ、プリント基板といった電子部品の製造工程で、配線層や部品層といった異なる画像を写すために、数枚から数十枚のフォトマスクが使用される。露光工程で1枚ごとにフォトレジストと呼ばれる感光性材料にフォトマスクの画像が転写される。露光により現像液への溶解性が変化するフォトレジストの特性に基づき、光の当たった部分が除去される、あるいは残存することにより、次のエッチング工程と呼ばれる被加工対象への溶解、除去処理に対するマスクとなる。エッチング工程での被加工対象の不要部分の除去が終了後、フォトレジストを薬液によって剥離することで工程が終了し、次の層の加工のためにまたフォトレジストが塗布され、同様の処理が繰り返される。 高密度半導体の製造に使われる高精細のフォトマスクのものではレチクルと呼ばれるものがある。.

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フォトレジスト

フォトレジスト(英語:photoresist)とは、フォトリソグラフィにおいて使用される、光や電子線等によって溶解性などの物性が変化する組成物である。物質の表面に塗布され、後に続くエッチングなどの処理から物質表面を保護することから、「レジスト」 (resist) の名がある。しかしながら、現在では、感光性を有し、画像様露光・現像によりパターニングを行って表面に画像層を形成することができる物質であればフォトレジストと呼ばれ、必ずしも保護の働きがあるとは限らない。.

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ドライエッチング

ドライエッチング(英語:dry etching)は、反応性の気体(エッチングガス)やイオン、ラジカルによって材料をエッチングする方法である。主に化学的な反応によるエッチングを指し、反応による生成物は気体である場合が多い。これに対して液体によるエッチングをウエットエッチングと呼ぶ。イオンミリングなどのようにイオンを衝突させてエッチングする方法など化学的な反応を伴わないものは物理エッチングと呼ぶ場合もある。実際には化学的な反応と物理的なものが同時に起こっている。 反応ガス中に材料を曝す方法(反応性ガスエッチング)とプラズマによりガスをイオン化・ラジカル化してエッチングする反応性イオンエッチング。 シリコンをエッチングする場合は、フッ素系のガスを用いる場合が多い。この場合にできる生成物は四フッ化ケイ素 (SiF4) である。.

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刷版

刷版(さっぱん)とは、印刷物の製造工程の中での製版工程で完成した製版フィルムの画像を印刷機に掛けて印刷作業に供されるべく、一枚の金属板に転写してインキの付着する部分としない部分を区別して製造する工程を指す用語である。 DTPが広まってコンピューター・トゥ・プレートが現れるまでは、製版フィルムをPS(Presensitized)版という、写真用印画紙をアルミ板状にした資材品を用いて、真空焼き枠で紫外線照射によって密着焼きをして現像定着させた後で消像剤を使って不要な画像を消し去り、必要とされる残りの画像や白地部分に画像面保護処理を施した後に完成品である刷版は作業スケジュールに沿って次工程に引き渡される、といったオフライン作業が行われる。通常、一色且つ一面(片面)印刷につき1枚の刷版が、両面印刷の際には表面の分と裏面の分の刷版が必要である。 また、製本段階の折り工程作業や綴じ工程作業や用紙寸法に合わせて作成された折り丁(面付プラン)等に沿って製版フィルムを面付けするべく、本作業の前に必要とされる準備や考慮しなければならない事前作業は多少なりとも存在する。 Category:印刷.

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分解能

分解能(ぶんかいのう、Optical resolution)は、装置などで対象を測定または識別できる能力。顕微鏡、望遠鏡、回折格子などにおける能力の指標のひとつである。.

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ウェハー

ウェハー、ウェーハ、ウエーハ、ウエハー、ウェハ、ウエハ(ウェイファ、wafer、/wéifər/)は、半導体素子製造の材料である。高度に組成を管理した単結晶シリコンのような素材で作られた円柱状のインゴットを、薄くスライスした円盤状の板である。呼称は洋菓子のウェハースに由来する。.

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ウェットエッチング

ウエットエッチング(英語:wet etching)とは、目的とする金属等を腐食溶解する性質を持つ液体の薬品を使ったエッチングである。主にプリント配線板製造や、金属銘板製造、半導体素子製造等の分野において使われる。半導体集積回路製造において、リソグラフィ技術と並んで重要な技術であり、半導体などの基板表面に光(電子ビーム)リソグラフィなどで微細なパターンを有するエッチマスクを形成させ、それによって基板を微細加工する際に用いられる。なお、美術の分野で銅版画にウエットエッチングが使われることがある。また結晶構造による反応性の違いを利用した異方性エッチングも使用される。他に、太陽電池表面の反射率を下げる為にテクスチャ形成にも用いられる。 ウエットエッチングの処理方法としては、エッチング液を満たした容器内で浸食するディップ式が簡便であるが、金属を腐食溶解した薬品を流し去り、処理面に新鮮な薬品を供給する必要があるため、容器内で薬品を揺すったりかき混ぜたりする必要がある。その点を改良したものとして、処理対象にスプレー式に薬品を吹き付けるスプレー式、スピナーと呼ばれる回転台に基板を取り付けて、薬品を滴下するスピン式などがある。.

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エッチング

ッチング(英: Etching)または食刻(しょっこく)とは、化学薬品などの腐食作用を利用した塑形ないし表面加工の技法。使用する素材表面の必要部分にのみ(防錆)レジスト処理を施し、腐食剤によって不要部分を溶解侵食・食刻することで目的形状のものを得る。 銅版による版画・印刷技法として発展してきた歴史が長いため、銅や亜鉛などの金属加工に用いられることが多いが、腐食性のあるものであれば様々な素材の塑形・表面加工に応用可能である。 金属の試験片をナイタール(エタノールと硝酸の混合液)などの腐食液によって表面を腐食することで、金属組織の観察や検査などに用いられている。.

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エキシマレーザー

マレーザー(Excimer Laser)とは希ガスやハロゲンなどの混合ガスを用いてレーザー光を発生させる装置である。元々は工業用として利用されていたが、最近ではレーシックなどの視力矯正手術においても利用されている。.

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ケイ素

イ素(ケイそ、珪素、硅素、silicon、silicium)は、原子番号 14 の元素である。元素記号は Si。原子量は 28.1。「珪素」「硅素」「シリコン」とも表記・呼称される。地球の主要な構成元素のひとつ。半導体部品は非常に重要な用途である。 地殻中に大量に存在するため鉱物の構成要素として重要であり、ケイ酸塩鉱物として大きなグループを形成している。これには Si-O-Si 結合の多様性を反映したさまざまな鉱物が含まれている。しかしながら生物とのかかわりは薄く、知られているのは、放散虫・珪藻・シダ植物・イネ科植物などにおいて二酸化ケイ素のかたちでの骨格への利用に留まる。栄養素としての必要性はあまりわかっていない。炭素とケイ素との化学的な類似から、SF などではケイ素を主要な構成物質とするケイ素生物が想定されることがある。 バンドギャップが常温付近で利用するために適当な大きさであること、ホウ素やリンなどの不純物を微量添加させることにより、p型半導体、n型半導体のいずれにもなることなどから、電子工学上重要な元素である。半導体部品として利用するためには高純度である必要があり、このため精製技術が盛んに研究されてきた。現在、ケイ素は99.9999999999999 % (15N) まで純度を高められる。また、Si(111) 基板はAFMやSTMの標準試料としてよく用いられる。.

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コンピューター・トゥ・プレート

ンピューター・トゥ・プレート(Computer To Plate)とは、印刷製版工程において、組版用コンピューターのデータから直接印刷版を出力する工程である。略してCTPと呼ばれる。.

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スパッタリング

パッタリング(Sputter deposition)は、.

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スピンコート

ピンコートとは平滑な基材を高速回転させる事により遠心力で薄膜を構成する装置である。日本でも伝統的な陶磁器の製造工程で回転するろくろ上で釉薬を塗布する方法が伝えられている。 装置の名称はスピンコーター、或いは単純にスピナーとも呼ばれる。 回転速度が速いほど、生成される薄膜は薄くなる。中心と周辺で膜厚を均質にする必要がある。 スピンコートは半導体製造工程に於いて広範囲に使用されている。また、DVD、Blu-ray Discなど一部のディスク媒体においても、記録面に有機色素の記録層や保護膜生成のために使われることが多い。高品質の薄膜を能率よく生成する手段としてこれに勝る手段は無い。厚さ10ナノメートル以下も可能である。フォトリソグラフィー工程で使用されるフォトレジストの厚みは約1μmである。.

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ステッパー

テッパー(stepper)とは、半導体素子製造装置の一つで、縮小投影型露光装置のことである。シリコンなどのウェハーに回路を焼き付けるため、ウェハー上にレジストを塗布し、レチクルのパターンを投影レンズにより1/4から1/5に縮小して、ウェハー上を移動(ステップ)しながら投影露光する。1つの露光エリアを露光する際にレチクルとウェハと固定して露光する装置と、レチクルとウェハーを同時に動かして露光する装置とがある。前者を「アライナー」、後者を「スキャナー」と呼ぶことが多い。後者のタイプは特性の良いレンズ中心部分を使用して露光することができるので微細化に向いているが、レチクルとウェハーを精密に同期させて露光する必要があるため構造が複雑となり、装置の価格も高価である。また、近年の微細化に対応するために投影レンズとウェハーの間の空間を液体で満たす液浸という方式も実用化されている。現在使用されている液体は超純水である。なお、液浸方式に於いては水のレジストへの影響を避けるためにトップコートと呼ばれる保護膜を塗布することが一般的である。トップコートの撥水性能が低いとステッパーの生産性を制約してしまうことから、薬液メーカによる撥水性能の開発競争が加速している。 ステッパーの性能(最小線幅、単位時間毎の処理枚数)は半導体産業の競争力に直結するため、各社が鎬を削っている。.

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写真植字

写真植字(しゃしんしょくじ、略称は写植、phototypesetting, photocomposition)は、写真植字機を用いて文字などを印画紙やフィルムに印字して、写真製版用の版下などを作ること。また長らくテレビ放送用のテロップ用の版下としても使われた。 多くのサイズの活字が必要な活版印刷に対し、写真植字では1個の文字ネガで足りる。オフセット印刷の普及とともに、写真植字も急速に需要を拡大した。 文字のネガをレンズで拡大または変形して印画紙に焼き付けるので、独特の柔らか味がある事が写真植字のメリットの一つである。DTPが普及した昨今でも、タイトル文字などに限って写真植字を指定して使うケースが見られる。 また、写真植字の歴史は、写研の歴史そのものとも言える。 文字の大きさの単位をQ(または級)、文字の送り量の単位をH(または歯)とする。いずれも0.25mmを1とする。すなわち24Qといえば6mmの大きさの文字を意味する。.

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上方から入ってきた光の道筋が、散乱によって見えている様子。(米国のアンテロープ・キャニオンにて) 光(ひかり)とは、基本的には、人間の目を刺激して明るさを感じさせるものである。 現代の自然科学の分野では、光を「可視光線」と、異なった名称で呼ぶことも行われている。つまり「光」は電磁波の一種と位置付けつつ説明されており、同分野では「光」という言葉で赤外線・紫外線まで含めて指していることも多い。 光は宗教や、哲学、自然科学、物理などの考察の対象とされている。.

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光硬化樹脂

光硬化樹脂(ひかりこうかじゅし)とは特定の波長の光によって重合、硬化する樹脂。 以前からスクリーン印刷等の製版に使用されていたが、徐々に使用が広まる。近年ではホログラフィーの記録媒体、ラピッドプロトタイピングの材料としても使用が進みつつある。.

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回路図

回路図(かいろず)とは電子回路、空気圧機器、油圧機器などの回路を記述するために用いられる図のことである。実体配線図と異なり、回路図での位置と実際に配置する場所は無関係であり、一種のグラフである。.

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回折

平面波がスリットから回折する様子を波面で表わした模式図 回折(かいせつ、英語:diffraction)とは媒質中を伝わる波(または波動)に対し障害物が存在する時、波がその障害物の背後など、つまり一見すると幾何学的には到達できない領域に回り込んで伝わっていく現象のことを言う。1665年にイタリアの数学者・物理学者であったフランチェスコ・マリア・グリマルディにより初めて報告された。障害物に対して波長が大きいほど回折角(障害物の背後に回り込む角度)は大きい。 回折は音波、水の波、電磁波(可視光やX線など)を含むあらゆる波について起こる。単色光を十分に狭いスリットに通しスクリーンに当てると回折によって光のあたる範囲が広がる。また、スリットが複数の場合や単一でも波長より広い場合、干渉によって縞模様ができる。この現象は、量子性が顕著となる粒子のビーム(例:電子線、中性子線など)でも起こる(参照:物質波)。.

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現像液

像液(げんぞうえき)は、写真・映画の現像工程において、フィルムや印画紙などの感光材料を現像するための薬液、水溶液である、2011年12月6日閲覧。、2011年12月6日閲覧。。現像主薬(げんぞうしゅやく)、現像保恒剤(げんぞうほこうざい)、現像促進剤(げんぞうそくしんざい)、現像抑制剤(げんぞうよくせいざい)等の混合溶液である。.

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製版

製版(せいはん)とは、印刷の工程の中で、版下(はんした)などを撮影してフィルムを作り、それを修正して、下版に備えることを言う。 下版してしまえば、印刷するための物理的な「印面」である刷版(さっぱん)を作ることになるので、製版が事実上修正のきく最後の工程となる。 伝統的な写真製版(アナログ製版)では、組版部分以外での網掛けや、写真の張り込みを、製版の過程において行う。また、それに先立って、張り込む写真を分解して、網目とする作業が含まれる。また、版下の凹凸に起因する影や、汚れを除去する作業が非常に大切である。 製版して作られるフィルムは、ネガとポジの2種類があり、用途によって使い分けられる。 現在ではデジタル化が進み、フィルムに出さず直接、アルミ板(刷版)にレーザーで焼付けを行うのが一般的になってきた。これはフィルムを現像する際に発生する現像液や定着液の廃液の海洋投棄が廃止される動きに伴い、廃液を減少させる効果があるとされている。 DTPが導入されてからは、組版作業と製版作業は同時に行われることとなった。これまでのアナログ製版の場合、組版作業上の間違いが製版後に発見された場合、組版作業をやりなおして、再び製版作業をしなければならなかったため、DTP導入後は一気に作業の速度が上がった。 製版作業の確認(校正)のためには、青焼き(あおやき)、または、清刷(きよずり)いずれかの方法によって、紙にプリントする。 青焼きとは、いわゆる青写真のことである。普通は一色刷りの印刷で用いられる。フィルム膜面と青焼き原紙の感光面とを重ねて紫外線感光させた後で青焼き専用の器械に通過させて、フィルムの透明な部分は無色白地(実際は原紙感光後の極薄青紫色で)、不透明な部分(線画・平網点・階調網点)は黒く(実際は原紙感光後の青紫色)或いはフィルム上の網点濃度に応じた黒さ(実際は網点濃度に応じた原紙感光後の青紫色)でプリントされる。 清刷とは、実際の印刷と同じようにインクを使って最終(完成予定)印刷物に使用される用紙にプリントすることであるが、殆どの場合には清刷(校正刷)専用のコロタイプ式印刷機で実施される。多色刷りの場合には必ず清刷を行い、色の調子を確認する(色校正という)。これは、下版以降の実際の印刷の時に、色見本としても用いられる。.

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超純水

超純水(ちょうじゅんすい、Ultra pure water)とは主に産業分野で用いられる用語で、極端に純度の高い水を指す。純水の製造方法では取り除けない有機物や微粒子、気体なども様々な工程を経て取り除かれているのが主な特徴である。.

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露出 (写真)

写真技術において露出(ろしゅつ、exposure)ないしは露光(ろこう)とは、フィルム、乾板などの感光材料やCCD、CMOSなどの固体撮像素子を、レンズを通した光にさらすこと(現在のカメラでは通常シャッターの開閉により、これを行う)。またはカメラのレンズを通過してくる光の総量や、画像そのものの明るさのことをいい、これらはレンズの絞り(F値)と露光時間(シャッター速度)及びフィルム感度の組み合わせによって決まる。 また、フィルムに記録された画像を印画紙にプリントするために、引き伸ばし機などを使って印画紙に像を焼き付けることもさす。撮影時のことを露出、プリント時のことを露光と呼んで区別することもある。.

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開口率

開口率(かいこうりつ、aperture ratio)とは、光学での光の透過割合や工学での面積当りの開口部の割合、又は流体が通過できる流量の割合を表す。建築分野でも独自の意味を持っている。.

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蒸着

蒸着(じょうちゃく、英語:vapor deposition)とは、金属や酸化物などを蒸発させて、素材の表面に付着させる表面処理あるいは薄膜を形成する方法の一種。蒸着は、物理蒸着(PVD)と化学蒸着(CVD)に大別される。ここでは主にPVDの一種である真空蒸着を解説する。.

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金属

リウム の結晶。 リチウム。原子番号が一番小さな金属 金属(きんぞく、metal)とは、展性、塑性(延性)に富み機械工作が可能な、電気および熱の良導体であり、金属光沢という特有の光沢を持つ物質の総称である。水銀を例外として常温・常圧状態では透明ではない固体となり、液化状態でも良導体性と光沢性は維持される。 単体で金属の性質を持つ元素を「金属元素」と呼び、金属内部の原子同士は金属結合という陽イオンが自由電子を媒介とする金属結晶状態にある。周期表において、ホウ素、ケイ素、ヒ素、テルル、アスタチン(これらは半金属と呼ばれる)を結ぶ斜めの線より左に位置する元素が金属元素に当たる。異なる金属同士の混合物である合金、ある種の非金属を含む相でも金属様性質を示すものは金属に含まれる。.

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酸化物

酸化物(さんかぶつ、oxide)は、酸素とそれより電気陰性度が小さい元素からなる化合物である。酸化物中の酸素原子の酸化数は−2である。酸素は、ほとんどすべての元素と酸化物を生成する。希ガスについては、ヘリウム (He)、ネオン (Ne) そしてアルゴン (Ar) の酸化物はいまだ知られていないが、キセノン (Xe) の酸化物(三酸化キセノン)は知られている。一部の金属の酸化物やケイ素の酸化物(ケイ酸塩)などはセラミックスとも呼ばれる。.

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電子線描画装置

電子線描画装置(でんしせんびょうがそうち、電子ビーム描画装置、電子ビーム露光装置、EB (electron beam) 露光装置、Electron Beam Lithography Exposure)は、電子線加工装置と走査型電子顕微鏡を応用したもので、主に半導体用レチクル作成に用いられる。電子銃から発せられた電子線を電子レンズやアパーチャー、デフレクタなどを通し、X-Y-Zステージを微細に制御しながらマスクブランクスへ照射して目的のパターンを露光する。また、マーク付きウェハーへの直接描画(ダイレクト描画)機能を持つものもある。.

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陰極線

極線(いんきょくせん、Cathode ray)とは真空管の中で観察される電子の流れである。真空に排気されたガラス容器に一対の電極を封入して電圧をかけると、陰極(電源のマイナス端子に接続された電極)の逆側にある容器内壁が発光する。その原因は陰極表面から電子が垂直に撃ち出されることによる。この現象は1869年にドイツの物理学者ヴィルヘルム・ヒットルフによって初めて観察され、1876年にによってKathodenstrahlen(陰極線)と名付けられた。近年では電子線や電子ビームと呼ばれることが多い。 電子が初めて発見されたのは、陰極線を構成する粒子としてであった。1897年、英国の物理学者J・J・トムソンは、陰極線の正体が負電荷を持つ未知の粒子であることを示し、この粒子が後に「電子」と呼ばれるようになった。初期のテレビに用いられていたブラウン管(CRT、cathode ray tubeすなわち「陰極線管」)は、収束させた陰極線を電場や磁場で偏向させることによって像を作っている。.

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X線

透視画像。骨と指輪の部分が黒く写っている。 X線(エックスせん、X-ray)とは、波長が1pm - 10nm程度の電磁波のことを言う。発見者であるヴィルヘルム・レントゲンの名をとってレントゲン線と呼ばれる事もある。放射線の一種である。X線撮影、回折現象を利用した結晶構造の解析などに用いられる。.

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極端紫外線リソグラフィ

極端紫外線リソグラフィ (Extreme ultraviolet lithography、略称:EUVリソグラフィ または EUVL) は、極端紫外線、波長13.5 nmにて露光する次世代リソグラフィ 技術である。.

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水銀灯

圧水銀灯 水銀灯(すいぎんとう)は、照明の一種。ガラス管内の水銀蒸気中のアーク放電により発生する光放射を利用した光源である。高圧水銀灯と低圧水銀灯に分れ、通常水銀灯と呼ぶときは前者を指す。医療用で用いる場合は太陽灯とも呼ぶ。 高圧水銀灯については、発光管の素材に石英ガラスが用いられることが多いため石英灯 (quartz lamp) 、石英水銀灯 (mercury quartz lamp) などと呼ばれることもある。.

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水酸化テトラメチルアンモニウム

水酸化テトラメチルアンモニウム(すいさんかテトラメチルアンモニウム、)は、化学式 +^-で表される、最もシンプルな第四級アンモニウム塩。TMAHまたはTMAOHと略される。比較的安定した固体の五水和物の形で知られ、市販品は水溶液またはメタノール溶液として販売されている。固体および水溶液は無色だが、不純物を含むと黄色みがかる。純粋なものは無臭であるが、不純物として含まれるトリメチルアミンにより生臭さが生じることがある。後述のように、試薬や工業用途など幅広く用いられる。.

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波長

波長(はちょう、Wellenlänge、wavelength)とは、空間を伝わる波(波動)の持つ周期的な長さのこと。空間は3次元と限る必要はない。 正弦波を考えると(つまり波形が時間や、空間の位置によって変わらない状態)、波長λには、 の関係がある。 \begin k \end は波数、 \begin \omega \end は角振動数、 \begin v \end は波の位相速度、 \begin f \end は振動数(周波数)である。波数 \begin k \end は k.

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液体

液体の滴は表面積が最小になるよう球形になる。これは、液体の表面張力によるものである 液体(えきたい、liquid)は物質の三態(固体・液体・気体)の一つである。気体と同様に流動的で、容器に合わせて形を変える。液体は気体に比して圧縮性が小さい。気体とは異なり、容器全体に広がることはなく、ほぼ一定の密度を保つ。液体特有の性質として表面張力があり、それによって「濡れ」という現象が起きる。 液体の密度は一般に固体のそれに近く、気体よりもはるかに高い密度を持つ。そこで液体と固体をまとめて「凝集系」などとも呼ぶ。一方で液体と気体は流動性を共有しているため、それらをあわせて流体と呼ぶ。.

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液晶ディスプレイ

液晶ディスプレイ(えきしょうディスプレイ、liquid crystal display、LCD)は、液晶組成物を利用する平面状で薄型の視覚表示装置をいう。それ自体発光しない液晶組成物を利用して光を変調することにより表示が行われている。.

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溶媒

水は最も身近で代表的な溶媒である。 溶媒(ようばい、solvent)は、他の物質を溶かす物質の呼称。工業分野では溶剤(ようざい)と呼ばれることも多い。最も一般的に使用される水のほか、アルコールやアセトン、ヘキサンのような有機物も多く用いられ、これらは特に有機溶媒(有機溶剤)と呼ばれる。 溶媒に溶かされるものを溶質(solute)といい、溶媒と溶質を合わせて溶液(solution)という。溶媒としては、目的とする物質を良く溶かすこと(溶解度が高い)、化学的に安定で溶質と化学反応しないことが最も重要である。目的によっては沸点が低く除去しやすいことや、可燃性や毒性、環境への影響などを含めた安全性も重視される。水以外の多くの溶媒は、きわめて燃えやすく、毒性の強い蒸気を出す。また、化学反応では、溶媒の種類によって反応の進み方が著しく異なることが知られている(溶媒和効果)。 一般的に溶媒として扱われる物質は常温常圧では無色の液体であり、独特の臭気を持つものも多い。有機溶媒は一般用途としてドライクリーニング(テトラクロロエチレン)、シンナー(トルエン、テルピン油)、マニキュア除去液や接着剤(アセトン、酢酸メチル、酢酸エチル)、染み抜き(ヘキサン、石油エーテル)、合成洗剤(オレンジオイル)、香水(エタノール)あるいは化学合成や樹脂製品の加工に使用される。また抽出に用いる。.

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濃度

濃度(のうど)は、従来、「溶液中の溶質の割合を濃度という、いろいろな表し方がある。質量パーセント濃度、モル濃度等」(日本化学会編 第2版標準化学用語辞典)と定義されている。しかし、濃度をより狭く「特に混合物中の物質を対象に、量を全体積で除した商を示すための量の名称に追加する用語」(日本工業規格(JIS))『JISハンドブック 49 化学分析』日本規格協会;2008年と定義している場合がある。 後者に従えば「質量モル濃度」と訳されているMolarityは「濃度」ではない。しかし、MolarityやMolalityにそれぞれ「質量モル濃度」「重量モル濃度」等「~濃度」以外の訳語は見られない。.

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